超クリーンな半導体製造のための高純度ろ過

超クリーンな半導体製造のための高純度ろ過

簡単な説明:


  • ブランド:ヘンコ
  • フィルター名:高純度バルクフィルターおよびユーティリティフィルター
  • 材料:SS 316L
  • 流量:10~120 SLPM
  • 最大動作温度:400~500℃
  • 粒子除去サイズ:> 0.003 μm
  • 製品詳細

    商品タグ

    説明

    高流量ガスフィルター – 半導体製造における超高純度プロセスガスのろ過用に特別に設計されています。316Lステンレス鋼から精密に製造され、マルチカラムまたはスタックディスクメディア設計により、高流量でも低抵抗を実現し、0.003μmのろ過精度で超高純度要件を満たします。オールメタル構造のため、高温の動的環境における理想的なろ過ソリューションです。

     

    製品の特徴

    ▶構造はすべて316Lステンレス鋼製です。耐久性と耐腐食性を確保します。
    ▶高流量、低抵抗― 圧力損失を最小限に抑えつつ、高流量を実現するように最適化されています。
    ▶超高粒子保持効率―超高純度状態を維持するのに最適です。
    ▶高温、高圧、腐食に強い―過酷な環境にも適しています。
    ▶様々なプロセスガスに対応― 多様な産業用途に対応可能。
    ▶クリーンルームでの製造、試験、包装に最適です。― 管理された環境での使用に最適です。
    ▶100%完全性テスト各フィルターは、品質保証のために包括的な完全性試験を受けています。
    ▶100%ヘリウムリークテスト― ヘリウムリークテストによって検証済みであり、重要な用途における信頼性を確保しています。

     

    高純度バルクフィルターおよびユーティリティフィルター(OEM販売)

     

    データシート

    技術仕様

    パラメータ 仕様
    フィルターエレメントの材質 316Lステンレス鋼粉末焼結
    ハウジング材 316Lステンレス鋼
    最大入口圧力 207バール
    最大作動差圧 5.2バール
    ヘリウム検証リーク率 2 x 10⁻¹⁰ cc/分
    ヘリウム漏洩率試験 1 x 10⁻¹⁰ cc/分
    表面処理  
    外面 Ra 1.6μm未満
    内面 Ra < 0.2 μm
    最大動作温度  
    不活性ガス 400~500℃
    腐食性および反応性ガス 50℃
    粒子保持効率 ≥99.9999999% (9LRV) @ 30 slpm
    下流の清浄度 ≤0.03粒子/リットル(>0.01μm、30slpm)
    粒子保持サイズ ≥0.003 μm

     

    サイズ

    高純度バルクフィルターおよびユーティリティフィルター(OEMサイズ)

    ご注文いただける部品番号とサイズ詳細は以下のとおりです。

    製品モデル フィルターエレメントの材質 ろ過精度(μm) 接続タイプ
    Z01B-00647 316Lステンレス鋼 10~0.003 1/4インチ
    Z01B-00648 316Lステンレス鋼 10~0.003 1/2インチ
    Z01B-00649 316Lステンレス鋼 10~0.003 1/8インチ
    Z01B-00650 316Lステンレス鋼 10~0.003 1インチ
    カスタマイズ可能 316Lステンレス鋼 10~0.003 必要に応じて

     

    代表的な用途

    の典型的なアプリケーションのいくつか高純度バルクフィルターおよびユーティリティフィルターそしてガスパッドにおけるガス流量流フィルター:

    1.半導体製造

    ウェハー製造、エッチング、化学気相成長(CVD)プロセスに必要な超高純度ガスの供給を保証します。
    窒素、アルゴン、その他のキャリアガス用のバルクガス供給システムにおいて、高い純度を維持します。

    2.医薬品製造

    *重要な製造環境向けに、無菌で粒子を含まないガスを提供します。
    クリーンルームや制御された環境における高純度ろ過をサポートし、製品の品質を維持します。

    3.実験室用ガスシステム

    *実験室環境において、ガスクロマトグラフィーや質量分析計などの分析装置でガス流を精製するために使用されます。
    研究および試験用途向けに高純度ガスを供給し、精密機器を保護します。

    4. 食品・飲料加工

    炭酸化、包装、保管に使用されるCO₂やその他のガスをろ過し、食品の安全性と品質を維持します。
    *特にガス供給事業者向けに、処理プラントにおける汚染のないガス供給を保証します。

    5.石油・ガス産業

    ガスパッドろ過において天然ガス流を浄化し、貯蔵または輸送前に汚染物質を除去します。
    高圧ガス流システム内の微粒子、水分、不純物を除去することで、下流の機器を保護します。

    6.化学製造

    化学合成や化学反応で使用される窒素やアルゴンなどのユーティリティガスをろ過します。
    ガスの純度を維持し、汚染や反応のばらつきを防ぎます。

    7. 航空宇宙・防衛

    航空宇宙材料および部品の製造・試験環境において、高純度ガスを供給します。
    航空機および防衛機器の組み立てにおいて、管理された環境下で一貫したガス純度を確保します。

    8.エネルギー生産(発電所)

    *高温環境下における冷却およびプロセス用途向けに、高圧ガスをろ過します。
    ガス冷却システムおよび流量システムにおける汚染を防止することで、効率を高め、機器の摩耗を低減します。

    これらのフィルターは、クリーンで安定したガスの流れを必要とするあらゆる用途に不可欠であり、機器の保護を強化します。

    業界全体におけるプロセス効率と最終製品の品質。

     

    半導体産業向け高純度バルクフィルターおよびユーティリティフィルター

     

    メッセージをお送りください:

    ここにメッセージを書いて送信してください


  • 前の:
  • 次:

  • 関連製品