HENGKO 高純度多孔質金属チャンバーディフューザー 半導体への高純度ガスろ過用ストーン

HENGKO 多孔質金属ディフューザーは、真空チャンバーを大気中に素早く通気し、サイクルタイムを短縮し、スループットを向上させます。当社のステンレス鋼ディフューザーは、チャンバー内の粒子を乱すことなく均一な層流のガス流を提供します。これらの多孔質金属ディフューザーは、入ってくるガスから 0.1 μm を超える粒子も除去し、ウェーハ上の欠陥を最小限に抑えます。
ステンレス鋼のディフューザーは、より高い動作圧力に耐え、製品の完全性を維持でき、業界で最長の寿命を誇ります。また、ニッケルよりも優れた耐食性を得るには、HENGKO 高純度ディフューザーを使用してください。

アプリケーション
HENGKO 多孔質金属ディフューザーは、ロード ロック チャンバー、トランスファー チャンバー、冷却チャンバー、半導体装置インターフェース (CVD、PVD、エッチング、エピ) またはその他の真空チャンバーのプロセス チャンバーのベント用途に使用されます。

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